ionPOWDER™: Ionenimplantationtechnologie und Coatings für Pulver

IONICS hat ein innovatives Niederdruck-Plasmabeschichtungs- und ionenimplantationsverfahren zur Behandlung von Pulvern, Körner und losen Teilen entwickelt.
Diese Ausrüstung ermöglicht die Oberflächenbehandlung des Pulvers mittels :
  • Ionenimplantation mit unserem ionGUN2000™, ein ECR Ionenquellen.
  • PVD- und PECVD-Verfahren, die es ermöglichen neue Legierungen mit seltenen Elementen, Kernschalen-Hybridstruktur und Nanostrukturierung, um verbesserte Eigenschaften kommerzieller kostengünstiger Pulver zu erzielen.

Prozessvorteile:

  • Raumtemperatur-Oberflächenbehandlung: ursprüngliche Eigenschaften des Schüttmaterial bleiben erhalten.
  • Teilegeometrie bleibt unverändert: keine erneute Bearbeitung
  • Präzise und lokalisierte Oberflächenbehandlung: Prozesszeit und technische Endleistungen optimiert
  • Elektrische Leitfähigkeit ist nicht erforderlich: alle nicht leitenden Materialien könnten behandelt werden
  • Umweltfreundlicher Trockenprozess.

* Die Kombination von PVD/PECVD-Beschichtungstechnologien in ein ionPOWDER™ ist optional.

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